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　　石墨烯是一種二維蜂窩狀碳質新材料，由于其*的結構石墨烯具有很多優異的性能。石墨烯的電子遷移率（2×105cm2·v-1·s-1），比硅半導體高100倍。石墨烯的力學性能也十分優異，研究者們通過原子力顯微鏡的針尖測量得到石墨烯的楊氏模量為1TPa。石墨烯還具有*的光學性能，單層的石墨烯僅僅吸收。

　　對于如何改善石墨烯的分散性問題，有大量的科研人員在這方面作了一系列研究，其方法主要集中在對石墨煉的表面改性、引入外來分子如負載納米粒子、加入表面活性劑分子、引入高分子以及摻雜芳香族大分子等，也有利用還原的氧化石墨煉面內或邊緣含氧官能團的靜電排斥作用以減弱片層間的范德華力來達到穩定分散的目的。也有報道在不加任何表面活性劑或穩定劑的情況下，通過調節分散介質的pH值達到穩定分散石墨烯的效果。

　　石墨烯分散設備包括以下步驟：

　　（1）將石墨原料分散于泡沫劑水溶液中，得到石墨預分散液；

　　（2）將石墨預分散液進行研磨，再通過水洗、離心分級，即得石墨烯；泡沫劑水溶液包括以下組分：a-烯基磺酸鈉、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸鈉、椰子油二乙醇基酰胺、聚乙二醇和水。采用石墨為原料，石墨浸潤于泡沫劑水溶液中，然后進行研磨，研磨設備的高速攪拌作用，帶動研磨介質高速運動從而對石墨產生沖擊、磨擦和剪切力，泡沫劑在封閉的研磨腔中產生大量穩定、細膩的泡沫，大量的泡沫可產生推擠作用，并支撐石墨，增大石墨與研磨介質的接觸面，從而達到很好的剝離效果。